Bahan Sasaran Titanium

• Bahan sasaran titanium diperbuat daripada-titanium ketulenan tinggi atau aloi titanium. Ketulenan 99.9% hingga 99.9999%. Ia adalah sejenis bahan yang sangat tulen, dihasilkan melalui proses pemendapan wap fizikal (PVD), dan digunakan terutamanya dalam teknologi salutan sputtering.
• Titanium sendiri ialah logam peralihan dengan rintangan haba dan kekuatan yang sangat baik, itulah sebabnya bahan sasaran yang diperbuat daripadanya berfungsi dengan baik dalam-suhu tinggi dan persekitaran-tekanan tinggi.
• Jenis bahan sasaran ini digunakan terutamanya dalam semikonduktor, salutan optik, salutan hiasan, anti-karat industri dan medan lain, dan merupakan salah satu bahan asas utama dalam pembuatan-tinggi.

• Spesifikasi ketulenan:

99.9% (3N): Ia biasanya digunakan dalam bidang seperti salutan hiasan dengan keperluan ketulenan yang agak rendah dan salutan alat.

Lebih besar daripada atau sama dengan 99.99% (4N): Ini ialah garis dasar untuk aplikasi dalam bidang seperti tenaga baharu (seperti tenaga suria).

99.995% (4N5): Ketulenan tipikal bahan sasaran titanium arus perdana yang digunakan dalam semikonduktor.

Lebih besar daripada atau sama dengan 99.999% (5N): Digunakan terutamanya untuk pembuatan peranti semikonduktor{2}}tinggi.

Lebih daripada atau sama dengan 99.9999% (6N): Ia digunakan terutamanya dalam pembuatan litar bersepadu berskala sangat besar (VLSI) dengan kapasiti 16 megabit atau lebih, dan ia mewakili tahap keperluan tertinggi.

• Bentuk dan saiz bahan sasaran titanium terutamanya dibahagikan kepada dua kategori. Mereka juga boleh disesuaikan mengikut keperluan pelanggan untuk memenuhi keperluan persekitaran aplikasi yang berbeza.

Bahan sasaran silinder

Diameter biasa: 60mm, 65mm, 95mm, 100mm (Kebanyakan digunakan untuk hiasan dan dalam industri alat)

Panjang biasa: 30mm, 32mm, 40mm, 45mm

Spesifikasi biasa untuk salutan wafer:Φ200mm (wafer 8 inci), Φ300mm (wafer 12 inci)

• Bahan sasaran silinder (sasaran berputar)

Ini ialah pilihan arus perdana untuk salutan kawasan besar-, digunakan secara meluas dalam panel paparan dan medan fotovoltaik, dengan kadar penggunaan yang lebih tinggi. Saiznya adalah pelbagai dan perlu disesuaikan mengikut reka bentuk barisan pengeluaran.

• Sifat bahan

Berdasarkan keperluan takat lebur yang tinggi dan ketumpatan rendah

Dengan keperluan yang agak tinggi untuk keseragaman dan kawalan kekotoran

 Industri semikonduktor: Bahan sasaran titanium digunakan dalam pembuatan semikonduktor untuk mendepositkan filem titanium, berfungsi sebagai lapisan konduktif atau lapisan penghalang, dan digunakan secara meluas dalam litar bersepadu dan peranti mikroelektronik.

 Salutan Optik: Sasaran titanium boleh digunakan untuk menghasilkan salutan pemantulan tinggi atau anti{0}}pantulan, yang digunakan pada kanta optik, skrin paparan dan panel solar, antara lain.

 Salutan Hiasan: Substrat titanium boleh disalut dengan pelbagai warna melalui proses sputtering, dan digunakan secara meluas dalam bidang jam tangan, barang kemas dan hiasan rumah.

 Peranti perubatan: Bahan titanium digunakan untuk membuat salutan biokompatibel, yang digunakan pada peranti perubatan seperti sendi tiruan dan implan pergigian, untuk meningkatkan ketahanan dan biokompatibilitinya.

 Aeroangkasa: Bahan titanium digunakan untuk menghasilkan salutan yang tahan terhadap suhu tinggi dan kakisan, dan digunakan pada komponen enjin pesawat dan perlindungan permukaan kapal angkasa.

 Sektor tenaga: Bahan sasaran titanium digunakan dalam bateri-ion litium dan sel bahan api untuk menyediakan bahan elektrod, dengan itu meningkatkan prestasi dan jangka hayat bateri.

Baoji Yibaite Bahan Baharu Technology Co., Ltdadalah pengeluar dan pembekal produk titanium terbaik. Kami mempunyai pasukan penyelidikan dan pembangunan profesional dan banyak pengalaman pengeluaran. Kami telah mendapat sijil GB/T 19001-2016/ISO9001:2015 dan sijil ISO 13485.

 

Baoji Yibaite New Materials Technology Co., Ltd menawarkan bahan dan perkhidmatan titanium profesional kepada anda.

Minta sebut harga